等離子清洗機(jī)也叫等離子清潔機(jī),或者等離子表面處理儀,是一種全新的高科技技術(shù),利用等離子體來(lái)達(dá)到常規(guī)清洗方法無(wú)法達(dá)到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài),也叫做物質(zhì)的第四態(tài),并不屬于常見(jiàn)的固液氣三態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、原子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清潔機(jī)就是通過(guò)利用這些活性組分的性質(zhì)來(lái)處理樣品表面,從而實(shí)現(xiàn)清潔、涂覆等目的。
真空等離子處理是如何進(jìn)行?
要進(jìn)行等離子處理產(chǎn)品,首先我們產(chǎn)生等離子體。首先,單一氣體或者混合氣體被引入密封的低壓真空等離子體室。隨后這些氣體被兩個(gè)電極板之間產(chǎn)生的射頻(RF)激活,這些氣體中被激活的離子加速,開(kāi)始震動(dòng)。這種振動(dòng)“用力擦洗”需要清洗材料表面的污染物。
在處理過(guò)程中,等離子體中被激活的分子和原子會(huì)發(fā)出紫外光,從而產(chǎn)生等離子體輝光。
溫度控制系統(tǒng)常用于控制刻蝕速率。60-90攝氏度溫度之間刻蝕,是室溫刻蝕速度的四倍。對(duì)溫度敏感的部件或組件,等離子體蝕刻溫度可以控制在15攝氏度。
我們所有的溫度控制系統(tǒng)已經(jīng)預(yù)編程并集成到等離子體系統(tǒng)的軟件中間。設(shè)置保存每個(gè)等離子處理的程序能輕松復(fù)制處理過(guò)程。
可以通過(guò)向等離子體室中引入不同氣體,改變處理過(guò)程。常用的等離子處理氣體包括O2、N2,Ar,H2和CF4。世界各地的大多數(shù)實(shí)驗(yàn)室,基本上都使用這五種氣體單獨(dú)或者混合使用,進(jìn)行等離子體處理。
等離子體處理過(guò)程通常需要大約兩到十分鐘。當(dāng)?shù)入x子體處理過(guò)程完成時(shí),真空泵去除等離子室中的污染物,室里面的材料是清潔,消過(guò)毒的,可以進(jìn)行粘接或下一步程序。